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nv4dll-git/chip_etching

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chip_etching

程序用途

微流控湿法刻蚀的工艺中,流道的宽度等于设计宽度+2*刻蚀深度,因此存在设计稿与实物具有差别的问题,为实验设计带来较多不变。 chip_etching软件包用为基于图像处理的微流控芯片刻蚀模拟程序,用于模拟湿法刻蚀过程,辅助微流控芯片设计。

原理

首先获取芯片的轮廓,然后每一个轮廓上的像素以刻蚀深度为半径向外扩展,模拟刻蚀过程。

流程

  • 首先将微流控芯片的CAD设计稿导出为无压缩的PNG格式,分辨率越高越好,大约需要3000*2000。
  • 采用Photoshop或其他软件将设计稿二值化,并储存为无压缩的tif格式。
  • 使用etching_simulation.ipynb进行刻蚀模拟。

案例

  • 二值化处理后的微流控芯片: 微流控芯片设计稿(二值化处理后)
  • 刻蚀模拟结果: 微流控芯片设计稿(二值化处理后)
  • 微流控芯片的实物照片: 微流控芯片设计稿(二值化处理后) 可以看出,刻蚀模拟结果与实物十分接近。

软件环境需求

  • Python
  • scipy
  • matplotlib

Author/作者

Haowei Jia, China University of Petroleum, [email protected]. 贾昊卫,中国石油大学(北京),[email protected]

License

MIT

About

微流控芯片刻蚀模拟软件包

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